北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)王镇辉获国家专利权
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龙图腾网获悉北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)申请的专利一种物镜曝光焦面的检测方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115097701B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-06发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210876988.2,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种物镜曝光焦面的检测方法及装置是由王镇辉;付纯鹤;高荣荣;魏祥英;苏鹏方设计研发完成,并于2022-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种物镜曝光焦面的检测方法及装置在说明书摘要公布了:本申请提供了一种物镜曝光焦面的检测方法及装置,包括:确定基准板在可移动工作台的多个垂向位置下的成像数据,每个垂向位置下的成像数据通过以下方式获得:控制可移动工作台到达一垂向位置,控制对准系统开启,捕捉基准板标记经由物镜在掩模版上所形成的成像数据;根据各垂向位置下的成像数据,确定每个垂向位置的成像评价值;根据最高成像评价值或最低成像评价值对应的目标垂向位置,确定物镜对准焦面所在位置,根据物镜对准焦面所在位置以及物镜对准焦面与物镜曝光焦面之间的固定偏置值,确定物镜曝光焦面所在位置。本申请通过获取物镜对准焦面及固定偏差值确定物镜曝光焦面,提高对物镜曝光焦面位置的检测速度。
本发明授权一种物镜曝光焦面的检测方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种物镜曝光焦面的检测方法,其特征在于,所述检测方法包括:确定基准板在可移动工作台的多个垂向位置下的成像数据,所述基准板布置在可移动工作台上,每个垂向位置下的成像数据通过以下方式获得:控制可移动工作台到达一垂向位置,控制对准系统开启,以使所述对准系统发射的对准光线经由掩模版以及物镜入射到基准板上的基准板标记,通过所述对准系统捕捉所述基准板标记经由物镜在所述掩模版上所形成的成像数据;针对每个垂向位置,根据该垂向位置下的成像数据,确定该垂向位置的成像评价值;根据最高成像评价值或最低成像评价值对应的目标垂向位置,确定物镜对准焦面所在位置;根据物镜对准焦面所在位置以及物镜对准焦面与物镜曝光焦面之间的固定偏置值,确定物镜曝光焦面所在位置;所述掩模版上设置有第一掩膜对准标记和第二掩膜对准标记,所述成像数据包括第一对准光线经由第一掩膜对准标记所形成的第一成像数据和第二对准光线经由第二掩膜对准标记所形成的第二成像数据,所述目标垂向位置包括基于第一成像数据所确定的与第一掩膜对准标记对应的目标第一垂向位置和基于第二成像数据所确定的与第二掩膜对准标记对应的目标第二垂向位置,其中,根据最高成像评价值或最低成像评价值对应的目标垂向位置,确定物镜对准焦面所在位置的步骤包括:确定在获得最高成像评价值或最低成像评价值的第一成像数据时,所述可移动工作台的第一水平位置;确定在获得最高成像评价值或最低成像评价值的第二成像数据时,所述可移动工作台的第二水平位置;根据各最高成像评价值或最低成像评价值对应的目标第一垂向位置、目标第二垂向位置、第一水平位置、第二水平位置,确定物镜对准焦面的定位高度值和方向倾斜值;根据物镜对准焦面的定位高度值和方向倾斜值,确定物镜对准焦面所在位置。
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