天津大学封伟获国家专利权
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龙图腾网获悉天津大学申请的专利一种柔性高阻隔复合薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119029069B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411191877.3，技术领域涉及：H10F19/80；该发明授权一种柔性高阻隔复合薄膜及其制备方法和应用是由封伟;孙小杰设计研发完成，并于2024-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种柔性高阻隔复合薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本申请涉及薄膜技术领域，公开了一种柔性高阻隔复合薄膜及其制备方法和应用。柔性高阻隔复合薄膜包括基底、设置于基底表面的阻隔层和设置于阻隔层表面的保护层；阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层，第一阻隔层设置于基底表面，第二阻隔层设置于第一阻隔层表面；第一阻隔层为SiO2薄膜；第二阻隔层为Al2O3ZnO纳米堆叠薄膜；保护层为有机聚硅氮烷或聚硅氧烷。本申请的柔性高阻隔复合薄膜中第二阻隔层中ZnO的引入可避免纯Al2O3薄膜中缺陷的累积扩展，且Al2O3和ZnO之间通过Zn‑Al‑O的成键形成稳定、致密的界面层结构，提高水汽阻隔能力。此外，第二阻隔层可对第一阻隔层存在的缺陷进行修复，进一步提高水汽阻隔性能。
本发明授权一种柔性高阻隔复合薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种柔性高阻隔复合薄膜，其特征在于，包括基底、设置于基底表面的阻隔层和设置于阻隔层表面的保护层；所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层，第一阻隔层设置于所述基底表面，第二阻隔层设置于第一阻隔层表面；所述第一阻隔层为SiO2薄膜；所述第二阻隔层为Al2O3ZnO纳米堆叠薄膜；所述保护层为有机聚硅氮烷或聚硅氧烷；所述Al2O3ZnO纳米堆叠薄膜包括多个堆叠单元，每个所述堆叠单元包括一层Al2O3膜以及一层沉积于Al2O3膜上的ZnO膜；所述阻隔层的厚度≤300nm；其中，SiO2薄膜的厚度为30~200nm，密度为2.0~3.0gcm3；Al2O3ZnO纳米堆叠薄膜的厚度为30~100nm。
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