北京奥普托科微电子技术有限公司朱常兴获国家专利权
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龙图腾网获悉北京奥普托科微电子技术有限公司申请的专利光保护罩和光学系统获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222979854U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422254308.0,技术领域涉及:G02B7/00;该实用新型光保护罩和光学系统是由朱常兴;齐孟宗;蒋健君;王志康;赵文斌设计研发完成,并于2024-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本光保护罩和光学系统在说明书摘要公布了:本实用新型涉及一种光保护罩和光学系统,光保护罩包括壳体、温控组件以及降噪组件,壳体包括壁部、由壁部围合的容纳腔和与容纳腔连通的开口,壳体通过开口罩合于外部支撑体,通过容纳腔容纳光处理组件,壁部开设有与容纳腔连通的用于光通过的进光窗口和出光窗口;温控组件设置于壳体且用于调节容纳腔内部的光处理组件所在的环境温度;降噪组件设置于壁部,降噪组件用于阻断容纳腔的内部和外部的声波串扰,以对光处理组件的作业环境进行降噪。本实用新型实施例提供一种光保护罩和光学系统,能够提高光保护罩的多功能性,降低温度和噪音对光路的不利影响,改善光学系统的安全可靠性。
本实用新型光保护罩和光学系统在权利要求书中公布了:1.一种光保护罩,其特征在于,包括: 壳体,包括壁部、由所述壁部围合的容纳腔和与所述容纳腔连通的开口,所述壳体通过所述开口罩合于外部支撑体,通过所述容纳腔容纳光处理组件,所述壁部开设有与所述容纳腔连通的用于光通过的进光窗口和出光窗口; 温控组件,设置于所述壳体且用于调节所述容纳腔内部的所述光处理组件所在的环境温度; 降噪组件,设置于所述壁部,所述降噪组件用于阻断所述容纳腔的内部和外部的声波串扰,以对所述光处理组件的作业环境进行降噪。
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