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龙图腾网获悉北京航空航天大学申请的专利一种多层空间辐射屏蔽设计的可靠性评估方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119227528B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411270516.8，技术领域涉及：G06F30/27；该发明授权一种多层空间辐射屏蔽设计的可靠性评估方法是由付桂翠;管树凯;刘庆盛;钟京洋;万博设计研发完成，并于2024-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多层空间辐射屏蔽设计的可靠性评估方法在说明书摘要公布了：步骤一：空间辐射环境分析与屏蔽几何材料设计；步骤二：确定边界条件；步骤三：确定辐射屏蔽多目标优化模型；步骤四：基于遗传算法的屏蔽设计；步骤五：辐射屏蔽可靠性风险建模分析；步骤六：具体案例分析；步骤七：基于可靠性评估的辐射屏蔽设计分析。它采用一种多目标优化策略，旨在增强屏蔽结构和材料选择，优先考虑轻量化、紧凑性和最小辐射剂量等目标。该策略利用遗传算法，通过蒙特卡洛MCNP6模拟分析实现辐射屏蔽设计优化的自动化和效率的提高。构建基于可靠性的屏蔽设计技术，将不确定性集成到优化设计过程中，实现在辐射屏蔽材料剂量当量结果上的可靠性评估，提高电子设备可靠性。解决了将不确定性因素集成到辐射屏蔽优化过程中的难题，为有效辐射屏蔽和可靠性评估提供了理论依据。

本发明授权一种多层空间辐射屏蔽设计的可靠性评估方法在权利要求书中公布了：1.一种多层空间辐射屏蔽设计的可靠性评估方法，其特征在于：采用多目标优化遗传算法，重点考虑轻量化、紧凑性以及最小化辐射剂量的目标实现辐射屏蔽设计的自动化优化和效率提升；通过蒙特卡洛模拟分析，能够在屏蔽体质量、重量和体积之间实现有效平衡，构建基于可靠性的屏蔽设计技术，实现在辐射屏蔽材料剂量当量结果上的可靠性评估，减少辐射影响，提高电子设备可靠性；该方法具体步骤如下： 步骤一：空间辐射环境分析与屏蔽几何材料设计； 步骤二：确定边界条件； 步骤三：确定辐射屏蔽多目标优化模型； 步骤四：基于遗传算法的屏蔽设计； 步骤五：辐射屏蔽可靠性风险建模分析； NCRP假设超额致死风险与剂量当量呈线性关系，由此可得公式： 是高剂量率暴露的电子设备暴露时间A和吸收剂量G相关风险系数，质量因子QL由ICRP根据观察到的RBE因子定义； 评估其可靠性可由提出的上述表示公式中不确定性的方法，分别用随机变量XQ和XDDREF代替QL和DDREF的标称值，如下所示： κ是一个统计变量，表示由QL和DDREF的不确定性而导致的潜在电子设备辐射效应；XQ的概率函数与LET相关，相关性由对LET测量的相对效应RBE确定的，XDDREF的概率分布函数由NCRP提供； 引入不确定性，同时保持与剂量限值的直接关系，剂量当量表示为一个随机变量，表示为： Hx,κ＝∫ML,κDLxdL6 根据公式5，将过量剂量的终生风险限制在3％以下的要求相当于将公式6定义的剂量当量值限制在标称暴露限值以下； 对于给定的屏蔽厚度x，确定相关风险的随机序列，当风险序列的百分比低于3％时，屏蔽被认为对于给定的置信水平是可接受的；任务是确定满足此标准的x值，如果启动采用此屏蔽结构的任务，则在置信区间对电子设备的额外失效风险不会超过3％，由此建立辐射屏蔽的电子设备可靠性评估方法； 步骤六：具体案例分析； 步骤七：基于可靠性评估的辐射屏蔽设计分析。

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