彤程电子材料(常州)有限公司;上海彤程电子材料有限公司张宁获国家专利权
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龙图腾网获悉彤程电子材料(常州)有限公司;上海彤程电子材料有限公司申请的专利一种抛光材料、抛光垫及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119567089B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411271602.0，技术领域涉及：B24B37/20；该发明授权一种抛光材料、抛光垫及其制备方法和应用是由张宁;王福正;王文芳;董栋设计研发完成，并于2024-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光材料、抛光垫及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于半导体芯片抛光技术领域，具体涉及一种高性能的抛光材料、抛光垫及其制备方法和应用。所述抛光材料，用于抛光垫的抛光层，包括填料、表面活性剂、醚类化合物和树脂；所述抛光层的磨损深度不超过70μm，断裂伸长率为390‑500％。所述抛光垫，其至少一侧含有前述的抛光材料制成的抛光层。本发明的抛光材料和抛光垫，耐磨性好，具有良好的通用性，可以广泛应用于各种半导体芯片的抛光过程中，且制备方法简单，操作方便，适合大规模的工业生产。
本发明授权一种抛光材料、抛光垫及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种抛光材料，用于抛光垫的抛光层，其特征在于，所述抛光材料包括填料、表面活性剂、醚类化合物和树脂； 所述抛光层的磨损深度不超过70μm，断裂伸长率为390-500%； 所述填料为炭黑、碳纳米管、石墨烯和二氧化硅中的至少一种；所述表面活性剂为含不饱和双键的表面活性剂；所述醚类化合物为含不饱和双键的醚类化合物； 所述填料、表面活性剂和醚类化合物的质量比为1-5:5-10:2-5； 所述树脂为所述填料、表面活性剂和醚类化合物总质量的60-95%。
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