咸阳镭瑟奥普光电科技有限公司郑璇获国家专利权
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龙图腾网获悉咸阳镭瑟奥普光电科技有限公司申请的专利一种高消光比的偏振片获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222979825U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422118201.3,技术领域涉及:G02B5/30;该实用新型一种高消光比的偏振片是由郑璇;卢晓丽;曹少帅;曹迪;楚斐设计研发完成,并于2024-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高消光比的偏振片在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种高消光比的偏振片,包括:光学玻璃基片,镀制于所述光学玻璃基片表面的高消光比膜层,所述高消光比膜层包括由光学玻璃基片表面向外依次堆叠的多层结构,所述多层结构总层数为60层,为高折射率氧化钽材料层和低折射率氧化硅材料层依次交替镀制形成的多层结构,其中,光学玻璃基片表面镀制的为高折射率氧化钽材料层,所述高折射率氧化钽材料层上依次交替镀制低折射率氧化硅材料层和高折射率氧化钽材料层形成多层结构。
本实用新型一种高消光比的偏振片在权利要求书中公布了:1.一种高消光比的偏振片,包括:光学玻璃基片,镀制于所述光学玻璃基片表面的高消光比膜层,其特征在于,所述高消光比膜层包括由光学玻璃基片表面向外依次堆叠的多层结构,所述多层结构总层数为60层,为高折射率氧化钽材料层和低折射率氧化硅材料层依次交替镀制形成的多层结构,其中,光学玻璃基片表面镀制的为高折射率氧化钽材料层,所述高折射率氧化钽材料层上依次交替镀制低折射率氧化硅材料层和高折射率氧化钽材料层形成多层结构。
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