深圳市三利谱光电技术有限公司金宇翔获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市三利谱光电技术有限公司申请的专利一种去盖板用偏光片获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222975108U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421906573.6,技术领域涉及:C09J7/29;该实用新型一种去盖板用偏光片是由金宇翔;霍丙忠;郭奕强设计研发完成,并于2024-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种去盖板用偏光片在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种去盖板用偏光片,包括偏光片层、粘在偏光片层上表面的复合胶层、贴合在复合胶层上的TAC支撑层、涂布在TAC支撑层上的硬度涂液层、涂布在硬度涂液层上的AR涂层、涂布在AR涂层上的AF涂层、复合在AF涂层上的保护膜、粘在偏光片层下表面的压敏胶层和复合在压敏胶层下面的离型膜。本实用新型提供的去盖板用偏光片具有良好的硬度、抗刮和耐磨效果,并且具有薄化、轻量化和减少工序的优点。
本实用新型一种去盖板用偏光片在权利要求书中公布了:1.一种去盖板用偏光片,其特征在于,包括偏光片层、粘在偏光片层上表面的复合胶层、贴合在复合胶层上的TAC支撑层、涂布在TAC支撑层上的硬度涂液层、涂布在硬度涂液层上的AR涂层、涂布在AR涂层上的AF涂层、复合在AF涂层上的保护膜、粘在偏光片层下表面的压敏胶层以及复合在压敏胶层下面的离型膜。
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