武汉市汇达材料科技有限公司叶宏煜获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉市汇达材料科技有限公司申请的专利一种CMP修整盘获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222971901U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421832421.6,技术领域涉及:B24B53/017;该实用新型一种CMP修整盘是由叶宏煜;尹攀;柯云墨设计研发完成,并于2024-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种CMP修整盘在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种CMP修整盘,涉及半导体制造设备技术领域,包括:盘体;多个金刚石颗粒,设置于所述盘体的一侧表面的中部;环形沟槽,设置于所述金刚石颗粒所在侧面的中部且相对所述侧面凹陷设置;以及多个排液孔,分散设置于所述环形沟槽内,所述排液孔贯穿所述盘体延伸至所述盘体的另一侧表面,所述排液孔用于输入负压以将所述环形沟槽内的抛光液抽出。本实用新型的有益效果:金刚石颗粒脱落及破碎形成的碎屑混入抛光液后进入环形沟槽,在负压作用下将抛光液从排液孔处吸出,及时将化学机械研磨过程中产生的碎屑及时随着抛光液排出,解决抛光液排除不及时导致的抛光片表面污染,划伤等问题,提升了修整效果。
本实用新型一种CMP修整盘在权利要求书中公布了:1.一种CMP修整盘,其特征在于,包括: 盘体; 多个金刚石颗粒,设置于所述盘体的一侧表面的中部; 环形沟槽,设置于所述金刚石颗粒所在侧面的中部且相对所述侧面凹陷设置; 以及多个排液孔,分散设置于所述环形沟槽内,所述排液孔贯穿所述盘体延伸至所述盘体的另一侧表面,所述排液孔用于输入负压以将所述环形沟槽内的抛光液抽出。
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