安徽清电硅业有限公司曹志文获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽清电硅业有限公司申请的专利捞料槽水回用溢流循环装置和硅片的清洗系统获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222980463U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421836697.1,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型捞料槽水回用溢流循环装置和硅片的清洗系统是由曹志文;王成伟;杨正文;刘德超设计研发完成,并于2024-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本捞料槽水回用溢流循环装置和硅片的清洗系统在说明书摘要公布了:本申请公开了一种捞料槽水回用溢流循环装置和硅片的清洗系统。其中,该装置包括:插片机水槽和其侧面的溢流槽,在插片机水槽中的水位高度达到预设高度后溢流至溢流槽;捞料水槽,其侧面开设有高度依次降低的入水口、第一出水口以及第二出水口,第二出水口位于捞料水槽的底部侧面;三通阀、第一管道、第二管道、第三管道以及第四管道,第一管道的一端与入水口连通、另一端与三通阀的第一端连通,第二管道与第一出水口连通,第三管道的一端与第二出水口连通、另一端与三通阀的第二端连通,三通阀的第二端的阀门处于常闭状态,第四管道的一端与三通阀的第三端连通、另一端与溢流槽连通,可以解决硅片清洗过程中换水效率较低的技术问题。
本实用新型捞料槽水回用溢流循环装置和硅片的清洗系统在权利要求书中公布了:1.一种捞料槽水回用溢流循环装置,其特征在于,包括: 插片机水槽和溢流槽,所述溢流槽安装在所述插片机水槽的侧面、且与所述插片机水槽连通,在所述插片机水槽中的水位高度达到预设高度后溢流至所述溢流槽; 捞料水槽,所述捞料水槽的侧面开设有入水口、第一出水口以及第二出水口,所述入水口的高度位于所述溢流槽的最低水位与最高水位之间,所述第一出水口的高度低于所述入水口的高度且高于所述第二出水口的高度,所述第二出水口位于所述捞料水槽的底部侧面; 三通阀、第一管道、第二管道、第三管道以及第四管道,所述第一管道的一端与所述入水口连通、另一端与所述三通阀的第一端连通,所述第二管道与所述第一出水口连通,所述第三管道的一端与所述第二出水口连通、另一端与所述三通阀的第二端连通,所述三通阀的第二端的阀门处于常闭状态,所述第四管道的一端与所述三通阀的第三端连通、另一端与所述溢流槽连通。
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