芯恩(青岛)集成电路有限公司王国安获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利一种晶圆表面处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222980461U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421814945.2，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种晶圆表面处理装置是由王国安设计研发完成，并于2024-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆表面处理装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种晶圆表面处理装置，包括：化学液供应装置、处理装置及排液装置，化学液供应装置至少包括第一刻蚀液供应单元、第二刻蚀液供应单元、清洗液供应单元；处理装置至少包括清洗腔、第一刻蚀腔、第二刻蚀腔及承载台，第二刻蚀腔、第一刻蚀腔均位于清洗腔下方，第一刻蚀液、第二刻蚀液、清洗液供应单元分别用于向处于上述不同腔中的晶圆表面供应第一刻蚀液、第二刻蚀液、清洗液，通过调控承载台的位置可控制承载台上的晶圆于上述不同腔内进行不同的处理工艺；排液装置至少包括分别与第一刻蚀腔、第二刻蚀腔、清洗腔相连通的第一刻蚀液排出机构、第二刻蚀液排出机构及与清洗液排出机构。本实用新型的晶圆表面处理装置提升了晶圆良率。
本实用新型一种晶圆表面处理装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆表面处理装置，其特征在于，包括： 化学液供应装置，至少包括第一刻蚀液供应单元、第二刻蚀液供应单元以及清洗液供应单元； 处理装置，至少包括清洗腔、第一刻蚀腔、第二刻蚀腔及承载台，所述第二刻蚀腔、所述第一刻蚀腔均位于所述清洗腔下方，所述第一刻蚀液供应单元用于向处于所述第一刻蚀腔中的晶圆表面供应第一刻蚀液，所述第二刻蚀液供应单元用于向处于所述第二刻蚀腔中的所述晶圆表面供应第二刻蚀液，所述清洗液供应单元用于向处于所述清洗腔中的所述晶圆表面供应清洗液，通过调控所述承载台的位置可控制放置于所述承载台上的所述晶圆分别于所述第一刻蚀腔、所述第二刻蚀腔和所述清洗腔内进行不同的处理工艺； 排液装置，至少包括与所述第一刻蚀腔相连通的第一刻蚀液排出机构、与所述第二刻蚀腔相连通的第二刻蚀液排出机构以及与所述清洗腔相连通的清洗液排出机构。
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