武汉联特科技股份有限公司李耀获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉联特科技股份有限公司申请的专利一种芯片测试平台获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222979729U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421773989.5，技术领域涉及：G01R31/28；该实用新型一种芯片测试平台是由李耀;李林科;吴天书;杨现文;张健设计研发完成，并于2024-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种芯片测试平台在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种芯片测试平台，包括：检测区，至少设有功率耦合单元以及光谱耦合单元；功率耦合单元，至少包括PD探头、沿所述PD探头所在直线设置且位于所述PD探头前侧的准直透镜；光谱耦合单元，至少包括光纤、沿所述光纤所在直线设置且位于所述光纤前侧的双透镜。本实用新型通过在功率耦合单元中增加准直透镜，在对芯片进行检测时，芯片出光后准直透镜将激光转换成平行光进入PD探头；在光谱耦合单元中增加双透镜，芯片出光后经过前透镜转换成平行光，平行光经过后透镜后转换成汇聚光进入光纤中，实现了将芯片出光汇聚后并分别引入PD探头和光纤中，增大了PD探头和光纤所接收的光强，以满足测试需求。
本实用新型一种芯片测试平台在权利要求书中公布了：1.一种芯片测试平台，其特征在于，包括： 检测区A，至少设有功率耦合单元1以及光谱耦合单元2； 功率耦合单元1，至少包括PD探头101、沿所述PD探头101所在直线设置且位于所述PD探头101前侧的准直透镜102； 光谱耦合单元2，至少包括光纤201、沿所述光纤201所在直线设置且位于所述光纤201前侧的双透镜202。
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