宁波中科毕普拉斯新材料科技有限公司霍利岭获国家专利权
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龙图腾网获悉宁波中科毕普拉斯新材料科技有限公司申请的专利一种非晶纳米晶屏蔽片碎片化处理装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222980298U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421708456.9,技术领域涉及:H01F41/02;该实用新型一种非晶纳米晶屏蔽片碎片化处理装置是由霍利岭;黄嘉翔;霍利山;郭海设计研发完成,并于2024-07-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种非晶纳米晶屏蔽片碎片化处理装置在说明书摘要公布了:本实用新型涉及屏蔽片碎磁技术领域,具体涉及一种非晶纳米晶屏蔽片碎片化处理装置,包括,上料机构,非晶纳米晶原始带材可卷放地设于上料机构;用于对原始带材覆胶的覆胶机构,设于上料机构的前后两侧;至少一组碎磁机构,设于覆胶机构的出料侧,一组碎磁机构包括对称设置的图案化碎磁辊和凸点式碎磁辊,覆胶后的原始带材穿设于图案化碎磁辊和凸点式碎磁辊之间,原始带材穿过碎磁机构后获得碎磁后的带材。本实用新型可实现带材正反面的同步碎磁处理,有助于提高碎磁效率;选用不同样式且纹路相契合的碎磁辊对带材两面进行碎磁,以此制备的屏蔽片可同时满足高磁导率和低损耗的需求,且一致性较好,具备更优异的综合性能。
本实用新型一种非晶纳米晶屏蔽片碎片化处理装置在权利要求书中公布了:1.一种非晶纳米晶屏蔽片碎片化处理装置,其特征在于,包括, 上料机构2,非晶纳米晶原始带材可卷放地设于所述上料机构2; 用于对所述原始带材覆胶的覆胶机构,设于所述上料机构2的前后两侧; 至少一组碎磁机构,设于所述覆胶机构的出料侧,一组所述碎磁机构包括对称设置的图案化碎磁辊5和凸点式碎磁辊6,覆胶后的所述原始带材穿设于所述图案化碎磁辊5和所述凸点式碎磁辊6之间,所述原始带材穿过所述碎磁机构后获得碎磁后的带材。
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