京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司朱友勤获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利发光基板及发光装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222996982U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421846222.0，技术领域涉及：H10K59/12；该实用新型发光基板及发光装置是由朱友勤设计研发完成，并于2024-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光基板及发光装置在说明书摘要公布了：本公开的实施例提供了一种发光基板及发光装置，涉及显示技术领域，用于同时提高发光装置的电学性能和光学性能。该发光基板包括：衬底和多个发光器件，多个发光器件位于衬底一侧，每个发光器件包括叠置的第一电极、发光层和第二电极，第一电极相对第二电极更靠近衬底；第一电极包括反射电极，第二电极包括透明电极；其中，至少一个发光器件包括：光学调节结构，光学调节结构包括光学调控层和透明反射层，光学调控层位于第二电极远离衬底的一侧，透明反射层位于光学调控层远离衬底的一侧；光学调控层的电导率小于透明反射层的电导率，光学调控层与透明反射层的厚度不同。上述发光基板用于显示图像。
本实用新型发光基板及发光装置在权利要求书中公布了：1.一种发光基板，其特征在于，包括： 衬底； 多个发光器件，位于所述衬底一侧，每个所述发光器件包括叠置的第一电极、发光层和第二电极，所述第一电极相对所述第二电极更靠近所述衬底；所述第一电极包括反射电极，所述第二电极包括透明电极； 其中，至少一个所述发光器件包括：光学调节结构，所述光学调节结构包括光学调控层和透明反射层，所述光学调控层位于所述第二电极远离所述衬底的一侧，所述透明反射层位于所述光学调控层远离所述衬底的一侧；所述光学调控层的电导率小于所述透明反射层的电导率，所述光学调控层与所述透明反射层的厚度不同。
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