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龙图腾网恭喜中国航发北京航空材料研究院申请的专利高透过率的防眩电磁屏蔽膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115460900B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211107604.7，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权高透过率的防眩电磁屏蔽膜及其制备方法是由刘宏燕;霍钟祺;伍建华;望咏林;颜悦设计研发完成，并于2022-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本高透过率的防眩电磁屏蔽膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高透过率的防眩电磁屏蔽膜及其制备方法，该电磁屏蔽膜包括透明薄膜基底、防眩减反增透层和两层金属网栅电磁屏蔽层，两层金属网栅电磁屏蔽层分别布置在防眩减反增透层的上、下表面。该制备方法包括以下步骤：在透明薄膜基底的上表面溅镀第一金属网栅电磁屏蔽层；在第一金属网栅电磁屏蔽层的上表面依次溅镀第一低折射率薄膜层、第一高折射率薄膜层、第二低折射率薄膜层、第二高折射率薄膜层、第三低折射率薄膜层、第三高折射率薄膜层和第四低折射率薄膜层，形成防眩减反增透层；在防眩减反增透层的上表面溅镀第二金属网栅电磁屏蔽层。采用本发明的技术方案制备的电磁屏蔽膜具有屏蔽效能高、透过率高、吸波性好、耐候性好等优点。

本发明授权高透过率的防眩电磁屏蔽膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高透过率的防眩电磁屏蔽膜，包括透明薄膜基底、防眩减反增透层和金属网栅电磁屏蔽层，其特征在于：所述金属网栅电磁屏蔽层包括第一金属网栅电磁屏蔽层和第二金属网栅电磁屏蔽层；所述透明薄膜基底、防眩减反增透层和金属网栅电磁屏蔽层的排列顺序自下而上依次为透明薄膜基底、第一金属网栅电磁屏蔽层、防眩减反增透层和第二金属网栅电磁屏蔽层； 所述第一金属网栅电磁屏蔽层的材料为铜合金Cu85Ni8Ti5Cr2，其制备方法：按质量百分比称取四种纯金属颗粒混合均匀，其中Cu为85%、Ni为8%、Ti为5%、Cr为2%；将混合均匀的纯金属颗粒放入真空熔炼炉内进行熔炼，熔炼温度为1450-1500℃，熔炼时间为2-3h； 所述第二金属网栅电磁屏蔽层的材料为铜合金Cu83Ni8Ti5Cr2V2，其制备方法：按质量百分比称取五种纯金属颗粒混合均匀，其中Cu为83%、Ni为8%、Ti为5%、Cr为2%、V为2%；将混合均匀的纯金属颗粒放入真空熔炼炉内进行熔炼，熔炼温度为1450-1500℃，熔炼时间为2-3h。

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