恭喜上海传芯半导体有限公司季明华获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海传芯半导体有限公司申请的专利EUV光刻设备及EUV光刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115047729B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210815226.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权EUV光刻设备及EUV光刻方法是由季明华;黄早红;任新平设计研发完成，并于2022-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本EUV光刻设备及EUV光刻方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种EUV光刻设备及EUV光刻方法，其通过在晶圆上的光阻层经过亲水性表面处理的表面上冷凝水分来形成厚度较薄的一层水膜，由此利用水的折射率大于空气的特性来实现有效波长变短的效果，进而使得EUV光刻的图形分辨率和对比度进一步增强，有利于生产较以往更精细的结构，方案简单，设备升级成本低。
本发明授权EUV光刻设备及EUV光刻方法在权利要求书中公布了：1.一种EUV光刻设备，包括沿光路依次布设的EUV光源、照明系统、掩模台、投影系统以及硅片台，其特征在于，所述EUV光刻设备还包括布设在所述硅片台外围的供气系统，所述供气系统用于在对硅片台上的晶圆上的光阻层曝光之前，向所述光阻层的亲水性表面提供水汽，且所提供的至少部分所述水汽在所述光阻层的亲水性表面凝结而形成一层水膜。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海传芯半导体有限公司，其通讯地址为：200000 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区江山路2699弄1号楼5楼南侧；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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