恭喜三菱瓦斯化学株式会社安孙子洋平获国家专利权
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龙图腾网恭喜三菱瓦斯化学株式会社申请的专利聚合物组合物、清漆、和聚酰亚胺薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116096820B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180054779.3，技术领域涉及：C08L79/08；该发明授权聚合物组合物、清漆、和聚酰亚胺薄膜是由安孙子洋平;大东葵;石井健太郎;村谷孝博设计研发完成，并于2021-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚合物组合物、清漆、和聚酰亚胺薄膜在说明书摘要公布了：一种聚合物组合物，其包含聚合物X和下述通式3所示的化合物Y，所述聚合物X包含选自由下述通式1所示的重复单元和下述通式2所示的重复单元组成的组中的至少1种。式1中，X1为具有脂环结构或芳香族环的4价的基团，X为单键等。式2中，X2为具有脂环结构或芳香族环的4价的基团，R1和R2分别独立地为氢、碳数1～6的烷基等，X为单键等。式3中，R3为碳数1～30的烷基等，n为0～2。
本发明授权聚合物组合物、清漆、和聚酰亚胺薄膜在权利要求书中公布了：1.一种聚合物组合物，其包含聚合物X和下述通式3所示的化合物Y， 所述聚合物X包含选自由下述通式1所示的重复单元和下述通式2所示的重复单元组成的组中的至少1种， 式1中，X1为具有脂环结构或芳香族环的4价的基团，X为选自由单键、-NHCO-、-CONH-、-COO-和-OCO-组成的组中的至少1种， 式2中，X2为具有脂环结构或芳香族环的4价的基团，R1和R2分别独立地为氢、碳数1～6的烷基、或碳数3～9的烷基甲硅烷基，X为选自由单键、-NHCO-、-CONH-、-COO-和-OCO-组成的组中的至少1种， 式3中，R3为碳数1～30的烷基，n为1～2， 其中，化合物Y的含量相对于聚合物X为10ppm以上且10000ppm以下。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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