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恭喜东京毅力科创株式会社小岩真悟获国家专利权

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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利载置台、基板处理装置以及基板处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113782411B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110590771.0,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权载置台、基板处理装置以及基板处理方法是由小岩真悟设计研发完成,并于2021-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

载置台、基板处理装置以及基板处理方法在说明书摘要公布了:本发明提供载置台、基板处理装置以及基板处理方法。在包括载置基板的载置面的载置台中,使该载置面的平坦度提高。一种载置台,其用于载置基板,其中,该载置台具有:静电卡盘,其具有载置基板的载置面;支承构件,其支承所述静电卡盘;以及吸收构件,其配置于所述静电卡盘与所述支承构件之间,该吸收构件的外缘部借助紧固件与所述支承构件紧固,在所述静电卡盘与所述吸收构件之间形成有:连接区域,其位于所述静电卡盘的中央部,通过所述静电卡盘与所述吸收构件相互连接而成;以及分离区域,其位于比所述连接区域靠外缘侧的位置,通过所述静电卡盘与所述吸收构件相互分离而成。

本发明授权载置台、基板处理装置以及基板处理方法在权利要求书中公布了:1.一种载置台,其用于载置基板,其中, 该载置台具有: 静电卡盘,其具有载置基板的载置面; 支承构件,其支承所述静电卡盘;以及 吸收构件,其配置于所述静电卡盘与所述支承构件之间,该吸收构件的外缘部借助紧固件与所述支承构件紧固, 在所述静电卡盘与所述吸收构件之间形成有: 连接区域,其位于所述静电卡盘的中央部,通过所述静电卡盘与所述吸收构件相互连接而成;以及 分离区域,其位于比所述连接区域靠外缘侧的位置,通过所述静电卡盘与所述吸收构件相互分离而成, 其中,所述吸收构件用于吸收所述载置台的变形或者所述载置台的部件间公差。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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