恭喜东京毅力科创株式会社小原隆宪获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112825303B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011258884.2，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由小原隆宪设计研发完成，并于2020-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。能够减少基板处理装置的动作且缩短基板处理所花费的时间。基板处理装置具备：保持部，保持基板；液供给部，对由保持部保持的状态下的基板的主表面按顺序供给第1处理液和不同于第1处理液的第2处理液；摩擦体，在第1处理液和第2处理液的供给过程中，与基板的主表面接触并摩擦主表面；移动部，使摩擦体在基板的主表面处的接触位置在与基板的主表面平行的方向且互相交叉的第1轴方向和第2轴方向上移动；以及控制部，控制液供给部和移动部，以在第1处理液的供给过程中，使摩擦体的接触位置向第1轴方向的一方向移动，在接下来的第2处理液的供给过程中，使摩擦体的接触位置向第1轴方向的另一方向移动。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其中， 该基板处理装置具备： 保持部，其用于保持基板； 液供给部，其对由所述保持部保持的状态下的所述基板的主表面，按顺序供给第1处理液和不同于所述第1处理液的第2处理液； 摩擦体，其在所述第1处理液和所述第2处理液的供给过程中，与所述基板的所述主表面接触，并摩擦所述主表面； 移动部，其使所述摩擦体在所述基板的所述主表面处的接触位置在与所述基板的所述主表面平行的方向且是互相交叉的第1轴方向和第2轴方向上移动；以及 控制部，其控制所述液供给部和所述移动部，以在所述第1处理液的供给过程中，使所述摩擦体的所述接触位置向所述第1轴方向的一方向移动，在接下来的所述第2处理液的供给过程中，使所述摩擦体的所述接触位置向所述第1轴方向的另一方向移动。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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