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龙图腾网获悉武汉华中数控股份有限公司申请的专利一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118605388B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410712897.4，技术领域涉及：G05B19/404；该发明授权一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统是由吴渤;王浩清;王传兵;高翔;贾聪聪;何山;吴迪;胡少云;秦昌述;范大岗设计研发完成，并于2024-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统，该方法包括：S1.根据线性加工路径，设定拟合曲线最大逼近误差；S2.在所述线性加工路径上设置若干型值点并构成型值点集；S3.基于所述型值点集中的型值点设置控制点并构成控制点集；S4.根据所述控制点集中的若干控制点确定二次B样条曲线；S5.采用所述二次B样条曲线对线性加工路径进行拟合。本发明的算法复杂度低且能够满足线性加工路径误差可控的要求。本发明可应用在中高档数控系统中，其具备误差可控，且能实现路径局部光顺。

本发明授权一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种误差可控的线性加工路径拟合方法，其特征在于，包括： S1.根据线性加工路径，设定拟合曲线最大逼近误差； S2.在所述线性加工路径上设置若干型值点并构成型值点集； S3.基于所述型值点集中的型值点设置控制点并构成控制点集，具体包括：将所述型值点集中的相邻两个型值点连线构成若干型值点线段，在相邻两条型值点线段上分别设置一个控制点，且相邻两条型值点线段上的控制点到相邻两条型值点线段交点的距离相等；所述距离满足以下表达式： di＝min{εsinθi2，||Pi-1Pi|3，||PiPi+1||3}； 其中，i＝1,2,…,n-1，n为大于或等于2的正整数；ε为最大逼近误差；Pi-1,Pi,Pi+1均为型值点，θi为相邻两条型值点线段Pi-1Pi和PiPi+1的转角； S4.根据所述控制点集中的若干控制点确定二次B样条曲线，具体包括：根据所述控制点集中的4个控制点确定二次B样条曲线，其中，第一控制点Qi,0与型值点Pi-1重合，第二控制点Qi,1在型值点线段Pi-1Pi上，第三控制点Qi,2在型值点线段PiPi+1上，第四控制点Qi,3在控制点线段Qi,2Qi+1,1上，并且以Qi,0,Qi,1,Qi,2和Qi,3为控制点的二次B样条曲线和以Qi+1,0,Qi+1,1,Qi+1,2和Qi+1,3为控制点的二次B样条曲线在连接点Qi,3处的曲率值相等，且Qi+1,0与Qi,3重合； S5.采用所述二次B样条曲线对线性加工路径进行拟合。

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