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龙图腾网获悉北京当升材料科技股份有限公司申请的专利正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118315582B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410545373.0，技术领域涉及：H01M4/525；该发明授权正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备是由刘允;王聪;王竞鹏;周鹏虎;张学全;刘亚飞;陈彦彬设计研发完成，并于2024-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备，所述正极活性材料包括多个一次颗粒，所述正极活性材料003晶面等效片层数N003与104晶面等效片层数N104满足：N003*N104为1*104‑3*104，其中D003为所述正极活性材料微晶中垂直于003晶面方向的平均厚度，单位为nm，d003为所述正极活性材料微晶中003晶面间距，单位为nm，D104为所述正极活性材料微晶中垂直于104晶面方向的平均厚度，单位为nm，d104为所述正极活性材料微晶中104晶面间距，单位为nm。由此，采用该正极活性材料可以使得负载其的电池兼顾高能量密度、循环性能、倍率性能和安全性能。

本发明授权正极活性材料及其制备方法、正极极片、电池和用电设备在权利要求书中公布了：1.一种正极活性材料，其特征在于，所述正极活性材料包括多个一次颗粒，所述正极活性材料003晶面等效片层数N003与104晶面等效片层数N104满足：N003×N104为1×104-21108，，，其中D（003）为所述正极活性材料微晶中垂直于003晶面方向的平均厚度，单位为nm，d（003）为所述正极活性材料微晶中（003）晶面间距，单位为nm，D（104）为所述正极活性材料微晶中垂直于104晶面方向的平均厚度，单位为nm，d（104）为所述正极活性材料微晶中（104）晶面间距，单位为nm； 所述正极活性材料003晶面等效片层数N003为80-140；所述正极活性材料104晶面等效片层数N104为130-200； 所述正极活性材料微晶中垂直于003晶面方向的平均厚度D003为40nm-60nm； 所述正极活性材料利用正极活性材料前驱体制备得到，所述正极活性材料前驱体采用下列方法制备得到： 调节包括镍盐、钴盐、锰盐、沉淀剂和络合剂混合体系至pH1，pH1值为9-12，以便得到前驱体晶核； 当所述前驱体晶核的Dv50为2μm-4μm时，调节所述混合体系至pH2，pH2值为9-13，以便得到正极活性材料前驱体， 其中，pH2值大于pH1值。

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