北京北方华创微电子装备有限公司林源为获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体加工设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695065B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210333144.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权半导体加工设备是由林源为设计研发完成，并于2022-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体加工设备在说明书摘要公布了：本发明公开一种半导体加工设备，其包括半导体加工设备，其特征在于，包括工艺腔室、上电极射频线圈、下射频电源、下电极组件、电连接件和可调器件，下电极组件包括基座、静电卡盘、第一下电极和第二下电极，静电卡盘位于基座上方用于承载晶圆，第一下电极设置于基座内部且与下射频电源连接，第二下电极环绕且间隔设置于第一下电极之外，工艺腔室的内侧壁通过电连接件与第二下电极电连接，以使上电极射频线圈在工艺腔室的内侧壁产生的耦合电流通入第二下电极，可调器件用于调节工艺腔室的内侧壁通入第二下电极的耦合电流的大小。上述技术方案可以调节晶圆的边缘区域和中心区域的被加工速率，提升晶圆的均匀性。
本发明授权半导体加工设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体加工设备，其特征在于，包括工艺腔室、上电极射频线圈、下射频电源、下电极组件、电连接件和可调器件，所述下电极组件包括基座、静电卡盘、第一下电极和第二下电极，所述静电卡盘位于所述基座上方用于承载晶圆，所述第一下电极设置于所述基座内部且与所述下射频电源连接，所述第二下电极环绕且间隔设置于所述第一下电极之外，所述工艺腔室的内侧壁通过所述电连接件与所述第二下电极电连接，以使所述上电极射频线圈在所述工艺腔室的内侧壁产生的耦合电流通入所述第二下电极，所述可调器件用于调节所述工艺腔室的内侧壁通入所述第二下电极的耦合电流的大小。
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