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龙图腾网恭喜季华实验室申请的专利防串扰微显示阵列获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114335060B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111596617.0，技术领域涉及：H10H29/14；该发明授权防串扰微显示阵列是由岳大川设计研发完成，并于2021-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本防串扰微显示阵列在说明书摘要公布了：本申请提供一种防串扰微显示阵列，包括衬底以及阵列排布在衬底上的若干LED发光器件，若干LED发光器件被若干个隔离沟槽分割成若干个独立的岛部，LED发光器件具有发光层和分布式布拉格反射层，分布式布拉格反射层位于发光层背离出光面的一侧，衬底上周期性地排列有复数个反光结构，反光结构位于隔离沟槽的底部，并延伸至LED发光器件底面的下缘，以使得从底面边缘出射的光束被反射到分布式布拉格反射层，相邻反光结构的边缘限定LED发光器件的出光开口。本申请根据LED发光器件的尺寸设计对应周期性排列的反光结构，将ISO台阶边缘被“照亮”发出的光反射到发光区域进而再出射，最终将出光范围限定在出光开口内，消除杂光干扰。

本发明授权防串扰微显示阵列在权利要求书中公布了：1.一种防串扰微显示阵列，其特征在于，包括衬底（10）以及阵列排布在所述的衬底（10）上的若干LED发光器件（20），若干所述的LED发光器件（20）被若干个隔离沟槽（30）分割成若干个独立的岛部，所述的LED发光器件（20）具有发光层（21）和分布式布拉格反射层（22），所述的分布式布拉格反射层（22）位于所述的发光层（21）背离出光面的一侧，所述的衬底（10）上周期性地排列有复数个反光结构（11），所述的反光结构（11）位于所述的隔离沟槽（30）的底部，并延伸至所述的LED发光器件（20）底面（25）的下缘，所述的反光结构（11）具有向上凸出于所述的衬底（10）表面的正向特征，所述的反光结构（11）的法向量指向与出光方向相反的方向，所述的LED发光器件（20）还具有连接顶面（24）和底面（25）的多个侧表面（26），所述的侧表面（26）与底面之间的夹角为锐角，所述的发光层（21）有部分投射向侧表面（26）的光线被反射，以使得从所述的底面（25）边缘出射的光束被反射到所述的分布式布拉格反射层（22），相邻所述的反光结构（11）的边缘限定所述的LED发光器件（20）的出光开口。

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