恭喜中国科学院大连化学物理研究所李刚获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院大连化学物理研究所申请的专利一种微纳结构的激光窗口的增材制造方法及激光窗口获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116219395B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111477695.9，技术领域涉及：C23C16/40；该发明授权一种微纳结构的激光窗口的增材制造方法及激光窗口是由李刚;滕飞;吕起鹏;刘锐;金玉奇设计研发完成，并于2021-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种微纳结构的激光窗口的增材制造方法及激光窗口在说明书摘要公布了：本发明公开了一种微纳结构的激光窗口的增材制造方法及激光窗口，其步骤包括：1利用化学试剂超声清洗抛光后的石英玻璃；2利用微量注射泵进行聚苯乙烯微球自组装并将其转移到超声清洗后的石英玻璃上；3利用离子束辅助镀膜技术将聚苯乙烯小球直径减小，然后在其上镀上二氧化硅材料；4利用化学试剂对石英基底进行清洗，将带有部分二氧化硅的聚苯乙烯微球洗去；5洗净后的石英基底进行二次离子束辅助镀膜。该方法制备的微纳结构激光窗口透过率高，增透波段宽，抗激光损伤性能强。
本发明授权一种微纳结构的激光窗口的增材制造方法及激光窗口在权利要求书中公布了：1.一种微纳结构的激光窗口的增材制造方法，其特征在于： （1）超声清洗石英玻璃基底:石英玻璃经过抛光后，依次利用丙酮、氯仿、无水乙醇、去离子水超声清洗； （2）聚苯乙烯微球分散到溶剂中，并将其转移到超声清洗后的水平放置的石英玻璃上表面，于水平放置的石英玻璃上表面形成聚苯乙烯微球平铺的单层膜层； （3）利用离子源辅助镀膜技术将聚苯乙烯小球直径刻小，接着沉积二氧化硅层，二氧化硅层沉积厚度为100-500nm； （4）利用化学试剂对石英基底进行清洗，将带有部分二氧化硅的聚苯乙烯微球洗去； （5）洗净后的石英基底进行二次离子源辅助沉积二氧化硅，在原有结构表面继续沉积一定厚度的二氧化硅材料，获得最终结构，其中二氧化硅材料沉积厚度为20-500nm，二氧化硅沉积方向与石英基底表面夹角为60-85度。
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