恭喜华中科技大学陈学文获国家专利权
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龙图腾网恭喜华中科技大学申请的专利基片横向位移监测和横向对准系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114156218B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111374376.5，技术领域涉及：H01L21/68；该发明授权基片横向位移监测和横向对准系统和方法是由陈学文;林树培设计研发完成，并于2021-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片横向位移监测和横向对准系统和方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基片横向位移测量和横向对准领域，提供一种基于干涉散射显微技术，通过对基片表面进行显微成像，记录基片表面的散斑信息，获取不同时刻基片的位置信息，实现基片的横向位移监测。进一步地，根据监测的基片横向位移信息，将基片移动到指定位置，实现基片横向对准。其特点在于不依赖标记物，且对照明稳定性要求低，可实现亚纳米级精度的基片横向位移监测和横向对准。
本发明授权基片横向位移监测和横向对准系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种基片横向位移监测和横向对准系统，其特征在于，包括： 光源组件，用于提供照明光束； 显微系统，用于引导照明光束形成探测光束，并将探测光束引导至探测器；所述的探测光束，包括基片直接反射或透射的参考光束，还包括由基片表面纳米级或亚纳米级起伏、基片表面的颗粒或结构所产生的散射光束； 探测器，用于生成光学图像； 位移调整装置，用于承载基片，并调整基片的位置； 计算机处理系统，用于处理光学图像、生成干涉对比度图像，提取基片的位置信息，并控制位移调整装置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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