恭喜北京航空航天大学杨树斌获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京航空航天大学申请的专利一种气相刻蚀制备的MXene及其方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116040632B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111263248.3，技术领域涉及：C01B32/921；该发明授权一种气相刻蚀制备的MXene及其方法和用途是由杨树斌;郭禹设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种气相刻蚀制备的MXene及其方法和用途在说明书摘要公布了：本发明公开了一种气相刻蚀制备的MXene及其方法和用途，其中，该方法通过气态的刻蚀剂与MAX相材料发生刻蚀反应得到MXene，其中，刻蚀剂选自：金属氯化盐；或硼的氯化物、碳的氯化物、硅的氯化物或磷的氯化物；或氯代烃的一种或多种；当常温下，刻蚀剂为液态或固态时，还包括将刻蚀剂加热，使刻蚀剂转变为气态。本发明的方法为制备MXene提供了新的刻蚀剂，拓展了MXene的制备技术路线，不涉及酸洗、干燥等后处理过程，提高了制备效率，产物MXene的纯度高，易于实现工业化宏量生产。
本发明授权一种气相刻蚀制备的MXene及其方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种气相刻蚀制备MXene的方法，其特征在于，通过气态的刻蚀剂与MAX相材料发生刻蚀反应得到所述MXene，其中，所述刻蚀剂选自： 金属氯化盐；或， 硼的氯化物、硅的氯化物或磷的氯化物；或， 氯代烃的一种或多种； 当常温下，所述刻蚀剂为液态或固态时，还包括将所述刻蚀剂与所述MAX相材料分开放置，将所述刻蚀剂加热，使所述刻蚀剂转变为气态。
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