恭喜信利(惠州)智能显示有限公司张正洋获国家专利权
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龙图腾网恭喜信利(惠州)智能显示有限公司申请的专利一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113964078B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111040504.2,技术领域涉及:H01L21/687;该发明授权一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置是由张正洋;符伟杰;何海山设计研发完成,并于2021-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置在说明书摘要公布了:本发明涉及一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置,包括:台板,台板上设置有凸起的放置平台,放置平台的顶端面用于放置基板,并且放置平台的顶端面的面积大于基板的面积,台板可沿竖直方向往复移动;支撑块,支撑块设置在台板上并且围绕放置平台分布,支撑块上设置有夹持空间,支撑块的高度低于放置平台的高度;掩膜框架,掩膜框架靠近台板的端面为槽体结构,掩膜框架的槽体的槽底面在台板上的投影覆盖放置平台,掩膜框架的槽体的侧壁固定于夹持空间内。
本发明授权一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置在权利要求书中公布了:1.一种防止基板表面存在摩擦灰尘的装置,其特征在于,包括: 台板,所述台板上设置有凸起的放置平台,所述放置平台的顶端面用于放置所述基板,并且所述放置平台的顶端面的面积大于所述基板的面积,所述台板可沿竖直方向往复移动; 支撑块,所述支撑块设置在所述台板上并且围绕所述放置平台分布,所述支撑块上设置有夹持空间,所述支撑块的高度低于所述放置平台的高度; 掩膜框架,所述掩膜框架靠近所述台板的端面为槽体结构,所述掩膜框架的槽体的槽底面在所述台板上的投影覆盖所述放置平台,所述掩膜框架的槽体的侧壁固定于所述夹持空间内; 所述夹持空间包括第一侧壁和第二侧壁,所述掩膜框架的槽体的侧壁位于所述第一侧壁与所述第二侧壁之间,并且所述掩膜框架的槽体的侧壁分别和所述第一侧壁、所述第二侧壁贴合,所述夹持空间为容纳槽,所述容纳槽的槽底位于所述支撑块; 所述支撑块采用如下步骤进行制备: 步骤一,将二硫化钼、氧化镁、氧化硅、碳酸钙、氧化锆、石墨、高岭土按照配比混合后,再将其置于温度为500-800℃的环境中进行预处理1-3min得到混合物; 步骤二,混合物置于研磨机中研磨并过100目筛后再和丙烯酸脂、丙烯酸羧乙醇脂在搅拌状态下混合制得浆料A,将浆料置于温度为60-90℃的环境中静置处理10-30min; 步骤三,将浆料A冷却至室温后,在浆料A中加入羟基丁腈橡胶后搅拌30-60min得到浆料B,搅拌速度为1000-3000rmin; 步骤四,将浆料B填入模腔,通过浇注成型形成坯体; 步骤五,对坯体进行烧制,220-350℃进行脱脂,440-650℃进行排胶,880-980℃烧结成型,制得所述支撑块,制备的所述支撑块的动静摩擦系数比为95.78-97.89%。
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