恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司蒋晓黎获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115480453B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110605088.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备是由蒋晓黎;侯宝路设计研发完成，并于2021-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备。其中积分均匀性补偿方法包括：获取整个视场的光强数据；根据光强数据，计算光场的积分均匀性；根据积分均匀性，计算均匀性需求的第一补偿量；根据成像单元的成像关系，计算均匀性需求的第二补偿量；根据第一补偿量和第二补偿量计算补偿版的形貌；根据补偿版的形貌制备补偿版，并将补偿版插入曝光系统中进行积分均匀性补偿。本发明实施例提供的积分均匀性补偿方法可以简化补偿过程，确保积分均匀性补偿的可靠性，降低补偿成本，提高各拼接视场积分均匀性的一致性，确保各视场均在最佳积分均匀性下曝光，提高产品制造质量。
本发明授权一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种积分均匀性补偿方法，其特征在于，包括： 获取整个视场的光强数据； 根据所述光强数据，计算光场的积分均匀性； 根据所述积分均匀性，计算均匀性需求的第一补偿量； 根据成像单元的成像关系，计算均匀性需求的第二补偿量； 根据所述第一补偿量和所述第二补偿量计算补偿版的形貌； 根据所述补偿版的形貌制备补偿版，并将所述补偿版插入曝光系统中进行积分均匀性补偿； 所述根据成像单元的成像关系，计算均匀性需求的第二补偿量包括： 根据光学模型，仿真光线经过成像单元时的卷积结果； 根据所述卷积结果和所述成像单元的放大倍率，计算均匀性需求的第二补偿量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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