恭喜IMEC 非营利协会;鲁汶天主教大学A·德普罗弗特获国家专利权
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龙图腾网恭喜IMEC 非营利协会;鲁汶天主教大学申请的专利用于调制入射光的光学器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114127624B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080051468.7，技术领域涉及：G02F1/01；该发明授权用于调制入射光的光学器件是由A·德普罗弗特;X·罗滕伯格;K·洛德威克斯设计研发完成，并于2020-07-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于调制入射光的光学器件在说明书摘要公布了：根据本发明构思的一方面，提供了一种用于调制入射光L的光学器件1，其包括包含光学状态变化材料112的谐振限定层结构110以及包含至少两个间隔开的电极元件121，122，123的电极层120。电极元件是可单独寻址的并且被布置成引起光学状态变化材料的一部分在第一状态和第二状态之间的光学状态变化，其中该部分形成由所述至少两个间隔开的电极元件的布置来限定的几何结构131，132，133，134，135，136。光学状态变化材料被配置成在第一状态和第二状态之间的光学状态变化时更改光学器件的光学响应，从而确定入射光的调制。
本发明授权用于调制入射光的光学器件在权利要求书中公布了：1.一种用于调制入射光L的光学器件1，包括： 包括光学状态变化材料112的谐振限定层结构110，所述谐振限定层结构110被配置为在上表面接收入射光； 包括至少两个间隔开的电极元件121，122，123的电极层120； 其中所述电极元件一起被布置在所述谐振限定层结构110下表面的下方或所述谐振限定层结构110的上表面的上方的至少一者，其中每一个电极元件是能单独地寻址的，并且被布置成引起所述光学状态变化材料的一部分从第一状态到第二状态的光学状态变化； 其中所述部分形成由所述至少两个间隔开的电极元件的布置来限定的几何结构131，132，133，134，135，136， 其中所述光学状态变化材料被配置成从所述第一状态到所述第二状态的光学状态变化时更改所述光学器件的光学响应，所述光学响应确定所述入射光的调制。
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