恭喜苏州宏策光电科技有限公司朱运平获国家专利权
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龙图腾网恭喜苏州宏策光电科技有限公司申请的专利一种极紫外耐高温薄膜滤片及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120065396B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510541696.7，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权一种极紫外耐高温薄膜滤片及其制备方法和应用是由朱运平;陈溢祺设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种极紫外耐高温薄膜滤片及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种极紫外耐高温薄膜滤片，属于薄膜制备技术领域。所述极紫外耐高温薄膜滤片包括依次层叠设置的第一Mo层，可重复单元层以及MoSi2层；所述可重复单元层包括第二Mo层和设置在第二Mo层表面的ZrSi2层；所述第一Mo层的厚度为2nm；所述可重复单元层中任一单元层中第二Mo层的厚度为2.5nm，ZrSi2层的厚度为1.5nm；所述MoSi2层的厚度为3nm；所述可重复单元层的周期层数为10~25。本发明制备得到的滤片自支撑性能好，滤片不同位置的透射率相当，透射均匀性好；且热稳定性高，在高温下不会产生砂眼或破裂，滤波效果不会大幅度下降。
本发明授权一种极紫外耐高温薄膜滤片及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种极紫外耐高温薄膜滤片，其特征在于，包括依次层叠设置的第一Mo层，可重复单元层以及MoSi2层； 所述可重复单元层包括第二Mo层和设置在第二Mo层表面的ZrSi2层； 所述第一Mo层的厚度为2nm； 所述可重复单元层中任一单元层中第二Mo层的厚度为2.5nm，ZrSi2层的厚度为1.5nm； 所述MoSi2层的厚度为3nm； 所述可重复单元层的周期层数为10~25。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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