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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利自动SRAF曝光显像抑制方法、装置、介质、程序产品及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119668054B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510188571.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权自动SRAF曝光显像抑制方法、装置、介质、程序产品及终端是由吴志强;张艾莎;杨爽设计研发完成，并于2025-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本自动SRAF曝光显像抑制方法、装置、介质、程序产品及终端在说明书摘要公布了：本发明提供自动SRAF曝光显像抑制方法、装置、介质、程序产品及终端，通过多轮迭代优化技术手段，实现在初始曝光图形中检测到干扰图形时对SRAF放置区域进行优化，当新的曝光图形满足预设终止条件时，结束迭代优化操作，从而解决了传统方法中需重新设计SRAF放置规则所带来的时间浪费和流程复杂性问题。本发明不仅保持了SRAF的原有空间位置，最大限度地保障了对主图形分辨率的增强效果，还提升了图形的清晰度和精度，从而提高了生产效率，简化了制造过程，为实际应用提供了更为便捷的解决方案。

本发明授权自动SRAF曝光显像抑制方法、装置、介质、程序产品及终端在权利要求书中公布了：1.一种自动SRAF曝光显像抑制方法，其特征在于，包括： 执行针对配置有SRAF的掩膜版的曝光仿真模拟算法，以生成初始曝光图形； 通过匹配算法在所述初始曝光图形中对干扰图形进行检测，若检测到干扰图形，则对SRAF放置区域执行多轮迭代优化操作；对SRAF放置区域执行多轮迭代优化操作的过程包括：判断所述干扰图形与SRAF放置区域是否重叠；若干扰图形坐标与SRAF放置区域重叠，则从所述SRAF放置区域中提取第一待优化区域；否则，从所述SRAF放置区域中提取第二待优化区域；对所述第一待优化区域第二待优化区域执行多轮迭代优化操作；从所述SRAF放置区域中提取第一待优化区域的过程包括：获取干扰图形坐标与SRAF放置区域的重叠区域；提取包含所述重叠区域的最小外接矩形，以生成第一待优化区域；从所述SRAF放置区域中提取第二待优化区域的过程包括：提取与所述干扰图形距离最近的SRAF放置区域；将所述干扰图形垂直投影至距离最近的SRAF放置区域，以生成投影长度；提取最近的SRAF放置区域在投影方向上的最长宽度；基于所述投影长度和所述最长宽度，在最近的SRAF放置区域中生成第二待优化区域；所述第一待优化区域第二待优化区域的形状为矩形，对所述第一待优化区域第二待优化区域执行多轮迭代优化操作的过程包括：以第一待优化区域第二待优化区域的中心点为基准，缩短第一待优化区域第二待优化区域的长边和短边，并使缩短后的长短和短边向所述中心点方向平移，以构成待去除区域；在所述SRAF放置区域中，将所述待去除区域挖除，以生成优化后的SRAF； 在每轮迭代优化操作后，基于配置优化后的SRAF的掩膜版，重新执行曝光仿真模拟算法以生成新的曝光图形；当新的曝光图形满足预设终止条件时，结束迭代优化操作。

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