昆山国音超声波工业设备有限公司衷福永获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山国音超声波工业设备有限公司申请的专利一种具有烘干机构的半导体晶元超声波清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223038902U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421998819.7，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种具有烘干机构的半导体晶元超声波清洗装置是由衷福永设计研发完成，并于2024-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有烘干机构的半导体晶元超声波清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及半导体晶元加工技术领域，尤其涉及一种具有烘干机构的半导体晶元超声波清洗装置，包括底座，所述底座上端设置有清洗槽，所述底座两侧内部均等距设置有多个孔洞；支架，所述支架两侧内壁之间滑动连接有活动框，所述活动框一侧贯穿滑动连接有承载框。清洗槽内部存储有适量的清洗液，清洗液通过多个通孔流动至承载框内部，再配合超声波发生器对承载框内部的半导体晶元进行清洗，通过超声波对半导体晶元进行清洗，能够彻底去除晶圆体表面的微粒、金属杂质、有机物和其它污染物，活动框带动承载框向上滑动，热气流从多个孔洞喷出，喷出的热气流通过多个通孔流动至承载框内部，对承载框内部的半导体晶元进行烘干处理。
本实用新型一种具有烘干机构的半导体晶元超声波清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种具有烘干机构的半导体晶元超声波清洗装置，其特征在于，包括 底座1，所述底座1上端设置有清洗槽2，所述底座1内部设置有腔体3，所述腔体3内部固定连接有多个加热丝4，所述底座1两侧内部均等距设置有多个孔洞5，所述孔洞5倾斜设置，所述孔洞5与腔体3连通； 支架9，所述支架9设于底座1上端，所述支架9两侧内壁之间滑动连接有活动框14，所述活动框14一侧贯穿滑动连接有承载框15，所述承载框15侧壁设置有多个通孔16。
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