昆山国音超声波工业设备有限公司衷福永获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山国音超声波工业设备有限公司申请的专利一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223027986U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421887695.5，技术领域涉及：B08B3/12；该实用新型一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置是由衷福永设计研发完成，并于2024-08-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及半导体晶元加工技术领域，尤其涉及一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置，包括底座，所述底座两侧内壁均滑动连接有滑块，两个所述滑块侧壁之间固定连接有框体，所述底座两侧内壁均设置有凹槽；活动板，所述活动板内部设置有腔体，所述活动板下端等距设置有多个孔洞。滑块带动框体向下滑动，滑块向下滑动时，滑槽对滑块进行限位，避免滑块滑动时错位，使得框体与半导体晶元浸泡于清洗液内部，然后超声波发生器运作，再配合清洗液对半导体晶元进行清洗，腔体内部的清水由多个孔洞喷出至半导体晶元表面，从而对半导体晶元进行二次清洗，去除半导体晶元表面可能残留的清洗液或化学成分。
本实用新型一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置，其特征在于，包括 底座1，所述底座1上端设置有清洗槽2，所述底座1两侧内壁均滑动连接有滑块5，两个所述滑块5侧壁之间固定连接有框体6，所述框体6设置为网状，所述底座1两侧内壁均设置有凹槽10； 活动板11，所述活动板11设于底座1内部，所述活动板11与凹槽10滑动连接，所述活动板11内部设置有腔体12，所述活动板11下端等距设置有多个孔洞13，所述孔洞13与腔体12连通。
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