微澜光学(苏州)有限公司方海获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉微澜光学(苏州)有限公司申请的专利隔光基底的光学成像薄膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223038202U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421876658.4，技术领域涉及：G02B3/00；该实用新型隔光基底的光学成像薄膜是由方海设计研发完成，并于2024-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本隔光基底的光学成像薄膜在说明书摘要公布了：本申请揭示一种隔光基底的光学成像薄膜，其特征在于，包括：隔光基底，所述隔光基底包括第一表面以及相对设置的第二表面；聚焦层，所述聚焦层位于所述隔光基底第一表面的一侧，所述聚焦层包括若干聚焦单元；图文层，所述图文层位于所述隔光基底第二表面的一侧，所述图文层包括若干微图文单元；其中，所述隔光基底能阻止光波长380nm以下的光线透过；所述聚焦单元与所述微图文单元相匹配设置，从而形成放大的影像。本申请将隔光基底设置为具有阻止波长在380nm以下的光线通过，这样可以在光学间隔的两侧同时进行曝光，其中一侧的光不影响另一侧光学层，这样只需对光学间隔层两侧掩膜版对位，这样在生产过程中对位的误差极小。
本实用新型隔光基底的光学成像薄膜在权利要求书中公布了：1.一种隔光基底的光学成像薄膜，其特征在于，包括： 隔光基底，所述隔光基底包括第一表面以及相对设置的第二表面； 聚焦层，所述聚焦层位于所述隔光基底第一表面的一侧，所述聚焦层包括若干聚焦单元； 图文层，所述图文层位于所述隔光基底第二表面的一侧，所述图文层包括若干微图文单元； 其中，所述隔光基底能阻止光波长380nm以下的光线透过；所述聚焦单元与所述微图文单元相匹配设置，从而形成放大的影像。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人微澜光学(苏州)有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹西路99号第3幢B区410室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号