嘉兴阿特斯技术研究院有限公司朱家畅获国家专利权
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龙图腾网获悉嘉兴阿特斯技术研究院有限公司申请的专利硅片的载板和气相化学沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223033449U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421650741.X，技术领域涉及：C23C16/458；该实用新型硅片的载板和气相化学沉积设备是由朱家畅设计研发完成，并于2024-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本硅片的载板和气相化学沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种硅片的载板和气相化学沉积设备，该硅片的载板包括：载板本体，载板本体开设有多个凹槽，凹槽用于放置硅片；多个支撑部，每个凹槽内设置有至少两个支撑部，至少两个支撑部在凹槽内间隔设置，支撑部用于支撑硅片。由此，可以给硅片提供支撑力，从而可以防止硅片发生变形，也可以提高硅片表面的镀膜均匀性。而且，至少两个支撑部在凹槽内间隔设置，如此，可以保证硅片受力更加均匀，也可以避免硅片在真空腔内由于抽速过快发生碎片，从而可以进一步提高硅片载板的合格良率。
本实用新型硅片的载板和气相化学沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种硅片的载板，其特征在于，包括： 载板本体，所述载板本体开设有多个凹槽，所述凹槽用于放置所述硅片； 多个支撑部，每个所述凹槽内设置有至少两个支撑部，所述至少两个支撑部在所述凹槽内间隔设置，所述支撑部用于支撑所述硅片； 所述凹槽的槽口边缘设置有导向斜面，所述导向斜面朝向所述凹槽的槽底倾斜延伸。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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