武汉华工正源光子技术有限公司杨峻峰获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华工正源光子技术有限公司申请的专利EPON光器件壳体及系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223038214U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420582150.7，技术领域涉及：G02B6/42；该实用新型EPON光器件壳体及系统是由杨峻峰;李岸宇;任恒旭设计研发完成，并于2024-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本EPON光器件壳体及系统在说明书摘要公布了：本实用新型涉及光通讯技术领域，尤其涉及一种EPON光器件壳体及系统；包括具有腔体的壳本体，所述壳本体上设有分别与腔体连通的第一光发射端口、第二光发射端口、光接收端口以及光口端，所述腔体内设有用于将经第一光发射端口入射的第一输入光以及经第二光发射端口入射的第二输入光合波至所述光口端的合波单元，合波光束传输路径上设有调节单元，所述调节单元用于将经光口端入射的第三输入光反射至光接收端口。本实用新型通过合波单元用于第一输入光和第二输入光复合，且在合波光束传输路径上设置用于第三输入光反射的调节单元，在用于光路传输的过程中，能够缩短整体的尺寸，实现减小体积、提高光学集成度的功能，减小重量，实现小尺寸封装。
本实用新型EPON光器件壳体及系统在权利要求书中公布了：1.一种EPON光器件壳体，包括具有腔体的壳本体，其特征在于，所述壳本体上设有分别与所述腔体连通的第一光发射端口、第二光发射端口、光接收端口以及光口端，所述腔体内设有用于将经所述第一光发射端口入射的第一输入光以及经所述第二光发射端口入射的第二输入光合波至所述光口端的合波单元，合波光束传输路径上设有调节单元，所述调节单元用于将经所述光口端入射的第三输入光反射至所述光接收端口。
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