重庆金美新材料科技有限公司臧世伟获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆金美新材料科技有限公司申请的专利一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116200718B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211738634.8，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统是由臧世伟设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统，通过在薄膜1镀膜的整个过程获取镀膜单元中挡板2表面不同位置的涂层3厚度或质量，对薄膜镀层均匀性进行评价。所述挡板2表面较厚的涂层3对应的薄膜1的镀层较薄，所述挡板2表面较薄的涂层3对应的薄膜1的镀层较厚；或者所述挡板2表面质量较小的涂层3，对应的薄膜1的镀层较厚，所述挡板2表面质量较大的涂层3，对应的薄膜1的镀层较薄。本发明提升了对薄膜1表面非常薄的镀层测量的精准性，最终实现沿着TD方向上的各镀膜单元的薄膜都能够进行均匀的镀层。
本发明授权一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统在权利要求书中公布了：1.一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： S1、基于薄膜1镀膜的整个过程获取镀膜单元中挡板2表面不同位置的涂层3厚度或质量，镀膜单元的蒸发源包括若干容纳有蒸发料的耐高温容器，所述挡板2位于蒸发源与薄膜1之间，用于在非正式镀膜时，阻挡蒸发料； S2、根据所述挡板2表面不同位置的涂层3厚度或质量对薄膜镀层均匀性进行评价，所述薄膜镀层为某一个所述蒸发源的蒸发料在薄膜1上的镀层，所述挡板2表面较厚的涂层3对应的薄膜1的镀层较薄，所述挡板2表面较薄的涂层3对应的薄膜1的镀层较厚；或者所述挡板2表面质量较小的涂层3，对应的薄膜1的镀层较厚，所述挡板2表面质量较大的涂层3，对应的薄膜1的镀层较薄； 所述步骤S1中镀膜单元为多个，每个镀膜单元包括一块挡板2和一个耐高温容器阵列，所述挡板2表面不同位置的涂层3厚度或质量与所述耐高温容器阵列中各耐高温容器4的坐标位置一一对应关联。
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