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龙图腾网获悉安徽工业大学申请的专利一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层、制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115747709B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211334244.4，技术领域涉及：B32B33/00；该发明授权一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层、制备方法及其应用是由蔡飞;周祺;张世宏;方炜设计研发完成，并于2022-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层、制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明涉及高速干式切削加工技术领域，具体涉及一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层、制备方法及其应用，所述的AlCrBSiN复合涂层中B和Si元素可以细化晶粒，提高涂层硬度，同时，B元素的加入可以抑制复合涂层在高温条件下的分解，提高其高温稳定性；同时B元素在高速干式切削过程中可以优先产生摩擦氧化膜，降低摩擦系数和摩擦力，减少涂层刀具的前刀面和后刀面的磨损，提高其高速干式切削性能；一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层高速干式切削寿命最长12.5min，相较于不含B和Si的AlCrN涂层9.5min，提高了31％，切削力减少23％，在刀具及表面防护领域具有重大的应用前景。

本发明授权一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层、制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种高速干式切削用AlCrBSiN涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1，将研磨抛光后的硬质合金试样进行超声清晰，用去离子水冲洗，烘干备用； S2，将步骤S1中烘干后的硬质合金试样加热，抽真空，通入Ar气，开启Ti靶，在炉腔内离化大量的Ti+和电子，撞击Ar，形成高能量高密度的Ar+对基材表面进行离子轰击，离子刻蚀清洗； S3，待步骤S2中的离子刻蚀结束后，保持沉积温度和炉腔的压强不变，开启Cr靶，沉积Cr第一粘结层； S4，待步骤S3中Cr第一粘结层沉积完成后，保持沉积温度不变，关闭Ar气，通入N2气，沉积CrN第二粘结层； S5，待步骤S4中CrN第二粘结层完成后，保持沉积温度不变，开启AlCr靶，进一步增加N2气通入量，沉积AlCrN过渡层； S6，待步骤S5中AlCrN过渡层沉积完成后，保持沉积温度不变，同时开启AlCrSi靶和AlCrB靶，进一步增加N2气通入量，沉积AlCrBSiN功能层； 所述步骤S6中AlCrSi靶的Al：Cr：Si原子比为60：30：10，AlCrB靶的Al：Cr：B原子比为65：30：5或60：30：10，增加N2气通入量后的压强为3～6Pa，N2流量为500～800sccm，沉积时间为50～60min。

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