上海艾深斯科技有限公司郑学刚获国家专利权
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龙图腾网获悉上海艾深斯科技有限公司申请的专利组合的光抗蚀剂和Si基硬掩模的涂层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116500858B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210054445.2，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权组合的光抗蚀剂和Si基硬掩模的涂层是由郑学刚设计研发完成，并于2022-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本组合的光抗蚀剂和Si基硬掩模的涂层在说明书摘要公布了：本发明涉及用于双层光抗蚀剂涂层的光抗蚀剂涂层组合物，作为组合的光抗蚀剂PR和Si基硬掩模SiHM，通过涂覆这样的组合物来涂覆微电子器件的方法，和通过涂覆这样的组合物来形成图案化器件的方法。
本发明授权组合的光抗蚀剂和Si基硬掩模的涂层在权利要求书中公布了：1.双层光抗蚀剂涂层的光抗蚀剂涂层组合物，包含： I硅氧烷共聚物A，其在单一工艺中由氢化倍半硅氧烷聚合物与一种或多种具有反应性基团的官能环烯烃的氢化硅烷化形成，其中硅氧烷共聚物A具有下式： [R1SiO1.5]a[R2SiO1.5]b[SiOHO1.5]c[SiO2]d[R3SiO1.5]e[R4SiO1.5]f 其中0.1a0.5、0.1b0.50、0.05c0.30、0.01d0.20、0.05e0.40、0.05f0.40， R1是甲基丙烯酸酯衍生结构单元，其含有金刚烷基、甲基金刚烷基、乙基金刚烷基、丙基金刚烷基、丁基金刚烷基或降冰片基的有机酯基团， R2是H， R3是含有羟基基团的金刚烷基、甲基金刚烷基、乙基金刚烷基、丙基金刚烷基、丁基金刚烷基或降冰片基， R4是甲基丙烯酸酯衍生结构单元，其含有内酯基或具有含内酯的基团，所述内酯基为γ-丁内酯基； II有机溶剂； III光产生的催化剂；和 IV碱。
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