同方威视科技(北京)有限公司;同方威视技术股份有限公司季峥获国家专利权
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龙图腾网获悉同方威视科技(北京)有限公司;同方威视技术股份有限公司申请的专利辐射源装置和辐射检查设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114155990B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111661887.5，技术领域涉及：G21K1/02；该发明授权辐射源装置和辐射检查设备是由季峥;公令军;党永乐;侯利娜;刘磊;宋全伟;倪秀琳;马媛;喻卫丰;李营;宗春光设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本辐射源装置和辐射检查设备在说明书摘要公布了：本公开提供了一种辐射源装置和辐射检查设备。辐射源装置包括：辐射本体，包括具有多个辐射部的辐射源和与辐射源连接且罩于辐射源外的屏蔽罩，屏蔽罩具有用于辐射源输出射束的射束出射部；安装座，被配置为承载辐射本体；和辐射源位置调节机构，连接于屏蔽罩和安装座之间，辐射源位置调节机构被配置为调节并锁定辐射本体与安装座的相对位置。辐射源装置和辐射检查设备包括该辐射源装置。本公开的辐射源装置和辐射检查设备利于降低辐射源的工作位置调节难度，提高调节效率，以及利于降低采用该辐射源装置的辐射检查装置的整体重量和成本。
本发明授权辐射源装置和辐射检查设备在权利要求书中公布了：1.一种辐射源装置，其特征在于，包括： 辐射本体21，包括具有在第一方向X上间隔布置的多个辐射部2111的辐射源211和与所述辐射源211连接且罩于所述辐射源211外的屏蔽罩212，所述屏蔽罩212具有用于所述辐射源211输出射束的射束出射部2122； 安装座22，被配置为承载所述辐射本体21；和 辐射源位置调节机构23，连接于所述屏蔽罩212和所述安装座22之间，所述辐射源位置调节机构23被配置为调节并锁定所述辐射本体21与所述安装座22的相对位置，所述辐射源位置调节机构23被配置为： 改变所述辐射本体21相对于所述安装座22的绕沿所述第一方向X的轴线的转动角度；和或 改变所述辐射本体21相对于所述安装座22的在所述第一方向X上的相对位置；和或 改变所述辐射本体21相对于所述安装座22的在垂直于所述第一方向X的第二方向Y上的相对位置。
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