上海精测半导体技术有限公司杨康康获国家专利权
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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114299032B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111647271.2，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备是由杨康康;刘骊松设计研发完成，并于2021-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备，所述方法，包括：建立关于设备参数的评价函数，以评价自动聚焦或像差校正时的图像质量；建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件，使用所述第一算法优化评价函数，并在符合所述判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，其中，所述第二算法的抗干扰性高于第一算法；获得当所述评价函数形成极值使得图像质量最优时的设备参数。本发明在第一算法满足判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，可以提高求解过程的抗干扰性，提高计算结果的准确性。
本发明授权自动聚焦或像差校正的优化方法及带电粒子束设备在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子束设备自动聚焦或像差校正的优化方法，其特征在于，包括： 建立关于设备参数的评价函数，以评价自动聚焦或像差校正时的图像质量； 建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件，使用所述第一算法优化评价函数，并在符合所述判定条件时切换为使用第二算法优化评价函数，其中，所述第二算法的抗干扰性高于第一算法，所述第二算法为黄金分割法或二分法； 获得当所述评价函数形成极值使得图像质量最优时的设备参数； 其中，所述建立用于评价第一算法的抗干扰性的判定条件包括： 所述第一算法为逆二次插值法，获取所述逆二次插值法的三个输入参数a，b和 c，其中，a＜b＜c； 建立至少一个关于两个所述输入参数的距离阈值公式和或一个关于三个输入参数的斜率差阈值公式，以形成所述判定条件。
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