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龙图腾网获悉中国科学院金属研究所申请的专利一种评价第二相尺寸均匀度和分布均匀度的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114120316B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111279592.1，技术领域涉及：G06V20/69；该发明授权一种评价第二相尺寸均匀度和分布均匀度的方法是由王培;刘腾远;蒋中华;张潇;陈响军;李勇翰;刘洋;李殿中;李依依设计研发完成，并于2021-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种评价第二相尺寸均匀度和分布均匀度的方法在说明书摘要公布了：本发明属于材料微观组织评价领域，特别是一种评价第二相尺寸均匀度和分布均匀度的方法，适用于评价不同成分材料经过不同工艺处理后，内部第二相尺寸和分布均匀性问题。首先将图像识别方法应用于材料的微观组织表征照片上，获得第二相的轮廓信息和形心坐标，利用离差标准化的方法将各第二相面积和第二相间的最短距离进行离差标准化处理，将数据归一化到[0,1]区间内，最终得到尺寸均匀度U1和分布均匀度U2。通过定量统计第二相的均匀度，可以建立起第二相分布情况与热处理等热加工工艺的关系，指导相关工艺优化以获得尺寸均匀、分布良好的第二相，进而改善实际材料的力学性能。本发明逻辑清晰，操作较易实现，适应范围较广。

本发明授权一种评价第二相尺寸均匀度和分布均匀度的方法在权利要求书中公布了：1.一种评价第二相尺寸均匀度和分布均匀度的方法，其特征在于，包括以下步骤： 1首先，获得第二相与基体存在明显衬度差异的微观组织照片，调用OpenCV库对图片进行灰度处理；通过高斯模糊GaussianBlur对图片中多余的干扰信息进行噪声去除，对降噪处理后的图片进行二值化阈值分割； 2根据基体与第二相的衬度差异，识别出各第二相的轮廓信息，并得到各第二相的面积Sn，最后通过离差标准化的方法将各第二相的面积归一化处理，进而得到尺寸均匀度U1； Smax＝max{S1,S2,S3…Sn} Smin＝min{S1,S2,S3...Sn} S′meaan＝max{S′1,S′2,S′3...S′n} U1＝1-σS,U1∈0,1 3基于上述步骤识别出的各第二相轮廓信息，构建出各第二相的最小外接圆以获得圆心坐标作为其形心；计算单个第二相与其他所有第二相形心坐标间的距离n代表第n个第二相颗粒，找出最小值并记录为重复上述过程，直到找出所有第二相间的最短距离 4对所有第二相间的最短距离进行离差标准化处理，将数据归一化到[0,1]区间内；之后求出这些处理后数据的标准差，并定义为分布均匀度U2； L′mean＝mean{L′1，L′2，L′3...L′n} U2＝1-σL，U2∈0,1。

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