武汉大学阴国印获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115850304B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111119112.5，技术领域涉及：C07F5/02；该发明授权立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的方法是由阴国印;丁超;任耀宇设计研发完成，并于2021-09-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种立体选择性制备2‑烷基‑4‑硼基杂环类化合物的方法，所述2‑烷基‑4‑硼基杂环类化合物的结构式如下式1所示：立体选择性制备2‑烷基‑4‑硼基杂环类化合物的反应式如下所示：该方法使用烯烃，烷基卤代物和联硼试剂，在金属镍催化剂作用下，一锅法反应制备顺式2‑烷基‑4‑硼基杂环类化合物，产率高，反应条件温和，底物适用性强，官能团兼容性好，具有优秀的区域选择性和立体选择性；所使用的原料廉价易得，操作简便，适于工业化生产。
本发明授权立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的方法在权利要求书中公布了：1.一种立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的方法，其特征在于，所述2-烷基-4-硼基杂环类化合物的结构式如下式1所示： 立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的反应式如下所示： ； 立体选择性制备2-烷基-4-硼基杂环类化合物的方法，包括：式2化合物、式3化合物和式4化合物在镍盐催化剂、二胺配体和碱作用下进行反应，得到含有式1化合物的反应液； 其中，式2化合物选自、、，式3化合物为B2pin2，结构为，式4化合物选自、、、、、；式1化合物选自、、、、、、、、； 所述镍盐催化剂为NiCl2·DME； 所述碱的阳离子为Li+，所述碱的阴离子为[OMe]–； 所述二胺配体选自如下化合物中的一种： 其中，R1为H； 所述反应在溶剂中进行，所述溶剂选自四氢呋喃、1,4-二氧六环、N-甲基吡咯烷酮中的一种或多种。
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