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恭喜北京中科镭特电子有限公司张彪获国家专利权

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龙图腾网恭喜北京中科镭特电子有限公司申请的专利解键合的激光发生器位置确定方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113851413B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111036026.8,技术领域涉及:H01L21/68;该发明授权解键合的激光发生器位置确定方法是由张彪;李纪东;张紫辰;侯煜;张昆鹏;张喆;易飞跃;杨顺凯设计研发完成,并于2021-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

解键合的激光发生器位置确定方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种解键合的激光发生器位置确定方法,应用于叠层结构的解键合过程,其中,叠层结构是由晶圆和基板键合形成的,所述方法包括:对所述叠层结构的第一区域进行激光照射并对所述第一区域的晶圆和基板施力进行分离;在第一区域分离后,获取第二区域发生形变后的位置;依据与所述第二区域对应的原始目标爆点位置、第二区域的原始位置以及激光发生器的原始目标位置,确定原始光路;依据所述补偿前光路入射基板前的部分以及第二区域发生形变后的位置,确定待补偿光路和待补偿爆点位置;依据所述待补偿光路入射基板后的部分以及第二区域发生形变后的目标爆点位置,确定激光发生器的目标位置。本发明能够对基板的形变位置导致的爆点位移进行预先的补偿,以确保爆点位置的准确。

本发明授权解键合的激光发生器位置确定方法在权利要求书中公布了:1.一种解键合的激光发生器位置确定方法,其特征在于,应用于叠层结构的解键合过程,其中,叠层结构是由晶圆和基板键合形成的,所述方法包括: 对所述叠层结构的第一区域进行激光照射并对所述第一区域的晶圆和基板施力进行分离; 在第一区域分离后,获取第二区域发生形变后的位置; 依据与所述第二区域对应的原始目标爆点位置、第二区域的原始位置以及激光发生器的原始目标位置,确定原始光路; 依据所述原始光路入射基板前的部分以及第二区域发生形变后的位置,确定待补偿光路和待补偿爆点位置;其中,所述待补偿爆点位置由原始光路经形变后的第二区域进行折射确定; 将所述原始目标爆点位置沿第二区域的形变方向进行移动,得到第二区域发生形变后的目标爆点位置; 依据所述待补偿光路入射基板后的部分以及第二区域发生形变后的目标爆点位置,确定激光发生器的目标位置; 其中,所述依据所述待补偿光路入射基板后的部分以及第二区域发生形变后的目标爆点位置,确定激光发生器的目标位置包括: 将所述待补偿光路入射基板后的部分进行移动,以使待补偿爆点位置点移动到目标爆点位置,确定实际的激光光路,并依据实际的激光光路确定激光发生器的目标位置。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京中科镭特电子有限公司,其通讯地址为:100176 北京市大兴区经济技术开发区经海四路156号院14号楼1层C区;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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