恭喜台湾积体电路制造股份有限公司陈儒莹获国家专利权
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龙图腾网恭喜台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利用于检查图案缺陷的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113053764B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110102885.6，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权用于检查图案缺陷的方法是由陈儒莹;李哲言;张家峰;林华泰;黄得智;孙启元;黄建元设计研发完成，并于2021-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于检查图案缺陷的方法在说明书摘要公布了：本公开涉及用于检查图案缺陷的方法。在一种用于检查图案缺陷的方法中，在底层之上形成多个图案。多个图案彼此电隔离。用电子束扫描多个图案的一部分以使多个图案带电。获得从多个图案的经扫描部分发射的二次电子的强度。搜索多个图案中的显示出与多个图案中的其他图案不同的二次电子的强度的一个或多个图案。
本发明授权用于检查图案缺陷的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于检查图案缺陷的方法，所述方法包括： 在底层之上形成多个图案，所述多个图案彼此电隔离； 用电子束扫描所述多个图案的一部分以对所述多个图案进行充电； 获得从所述多个图案的经扫描部分发射的二次电子的强度；以及 搜索所述多个图案中的显示出与所述多个图案中的其他图案不同的二次电子的强度的一个或多个图案； 其中，所述多个图案包括线和间隔图案，所述线和间隔图案具有彼此间隔开设置的多个线图案， 当所述多个线图案中的每个线图案的整体长度是A1时，所述多个图案的所述一部分沿着所述多个线图案延伸的方向的长度A2在A1的1％到20％的范围内， 在扫描所述多个图案的所述一部分期间，所述电子束不扫描所述多个图案的缺陷。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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