恭喜恩利克(浙江)显示科技有限公司周晧煜获国家专利权
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龙图腾网恭喜恩利克(浙江)显示科技有限公司申请的专利超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112573834B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011550109.4，技术领域涉及：C03C15/00；该发明授权超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法是由周晧煜;蒋承忠;吴天鸣;黄俊杰;陈风设计研发完成，并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法在说明书摘要公布了：本发明提供了超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法，超薄玻璃基板包括：一玻璃基板，玻璃基板的第一侧设有沿预设弯折路径延展的至少一弯折应力消散槽；以及一高分子补强层，高分子补强层填充弯折应力消散槽，高分子补强层露出于玻璃基板的上表面与玻璃基板的上表面平齐。本发明能够自玻璃母材获得玻璃基板的同时，在玻璃母材上设置填充高分子补强层的弯折应力消散槽，增强在后续的制程面板的过程中面板在预设弯折路径上的弯折性能，节约功能层制程的时间，同时提升超薄玻璃基板的抗弯折性能和抗冲击性能，大大提高了超薄玻璃基板的产品质量。
本发明授权超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法在权利要求书中公布了：1.一种超薄玻璃基板，其特征在于，包括： 一玻璃基板30，所述玻璃基板30的第一侧设有沿预设弯折路径延展的至少一弯折应力消散槽，并且在基板区域的边沿形成应力消散边缘；以及 一高分子补强层24，所述高分子补强层24填充所述弯折应力消散槽，所述高分子补强层24露出于所述玻璃基板30的上表面与所述玻璃基板30的上表面平齐，所述玻璃基板30的第二侧也设有被所述高分子补强层24填充的所述弯折应力消散槽；且所述第一侧的弯折应力消散槽基于所述玻璃基板30的第一投影与所述第二侧的弯折应力消散槽基于所述玻璃基板30的第二投影相互错位，所述高分子补强层的高分子材料透光性≥90％，折射率范围在1.2到1.7，与所述玻璃基板30的附着力为5B。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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