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龙图腾网恭喜艾迪奇股份公司申请的专利在子采样引起失真下借由低相干光干涉技术确定机体与物体表面的间隔距离的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112923856B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011431703.1，技术领域涉及：G01B11/02；该发明授权在子采样引起失真下借由低相干光干涉技术确定机体与物体表面的间隔距离的方法及系统是由西蒙·多那太罗;芭芭拉·普雷维塔利;达妮埃尔·科伦坡设计研发完成，并于2020-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本在子采样引起失真下借由低相干光干涉技术确定机体与物体表面的间隔距离的方法及系统在说明书摘要公布了：本发明描述了一种用于确定物体或材料与物体或材料的加工刀具或测量仪器之间的间隔距离的方法和系统，包括：产生低相干光辐射的测量光束，导引该测量光束射向物体，并导引自物体反射或漫射的测量光束沿第一入射方向射向光干涉传感器机构；产生低相干光辐射的参考光束，并导引参考光束相对于测量光束的第一入射方向以预设入射角度沿第二入射方向射向光干涉传感器机构；使测量光束和参考光束叠加在传感器机构的公共入射区域上；检测测量光束与参考光束之间的干涉条纹图案在入射区域上的位置；以及基于干涉条纹图案沿着入射区域的照射轴的位置，确定测量光路与参考光路之间的光程差，这表示以下二者之差：a加工刀具或测量仪器与物体表面之间的当前间隔距离，b预定标称间隔距离，其中，传感器机构包括沿着照明轴的光电探测器布置，并以此方式控制入射角度，即干涉条纹图案的空间频率大于光电探测器的空间频率。

本发明授权在子采样引起失真下借由低相干光干涉技术确定机体与物体表面的间隔距离的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于确定物体或材料与所述物体或材料的处理或测量机构之间的间隔距离的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： -产生低相干光辐射的测量光束，导引所述测量光束通过所述处理或测量机构接近物体的至少一个末端射向所述物体，并导引自物体反射或漫射的测量光束通过所述处理或测量机构接近物体的所述末端沿第一入射方向射向光干涉传感器机构，其中测量光束行经从相应的光源到所述光干涉传感器机构的测量光路，所述测量光路包括所述光源与处理或测量机构接近物体的末端之间的第一部段以及所述处理或测量机构接近物体的所述末端与光干涉传感器机构之间的第二部段，这些部段具有各自预定且不变的几何路程； -产生所述低相干光辐射的参考光束，并导引所述参考光束相对于所述测量光束的第一入射方向以预定入射角度沿第二入射方向射向所述光干涉传感器机构，其中，在所述处理或测量机构接近物体的所述末端与所述物体之间的距离对应于预定标称间隔距离的标称操作条件下，参考光束行经的参考光路的光程等于测量光路的光程； -使测量光束和参考光束沿着预定照明轴叠加在所述光干涉传感器机构的公共入射区域上； -检测测量光束与参考光束之间的干涉条纹图案在所述公共入射区域上沿着所述照明轴的位置，所述干涉条纹图案沿着照明轴的延伸长度对应于所述低相干光辐射的相干长度；以及 -确定测量光路与参考光路之间的光程差-这表示以下二者之差：a在处理或测量的接近物体的末端处，处理或测量机构与物体表面之间的当前间隔距离；b预定标称间隔距离-其作为所述干涉条纹图案沿着所述入射区域的所述照明轴的位置的函数， 其中，所述光干涉传感器机构包括沿着所述照明轴布置的光电探测器，并以此方式控制入射角度，即所述干涉条纹图案的空间频率大于光电探测器的空间频率，所述干涉条纹图案的空间频率随着所述入射角度增大而增大，致使因子采样引起失真而以较低的空间频率对干涉条纹图案进行空间解调，由此测量光路与参考光路之间可确定的最大光程差增大。

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