恭喜松下知识产权经营株式会社小川美和获国家专利权
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龙图腾网恭喜松下知识产权经营株式会社申请的专利电解电容器用电极箔、电解电容器及电解电容器的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114521279B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080066323.4，技术领域涉及：H01G9/04；该发明授权电解电容器用电极箔、电解电容器及电解电容器的制造方法是由小川美和;栗原直美设计研发完成，并于2020-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本电解电容器用电极箔、电解电容器及电解电容器的制造方法在说明书摘要公布了：一种电解电容器用电极箔，具备：包含第一金属的阳极体；覆盖阳极体的至少一部分、且包含第一金属的氧化物的第一电介质层；以及覆盖第一电介质层的至少一部分、且包含第二金属的氧化物的第二电介质层。第一金属包含选自钛、钽、铌及铝中的至少一种，第二金属包含选自硅、锆、铪及钽中的至少一种。第二电介质层的厚度T2比第一电介质层的厚度T1小。
本发明授权电解电容器用电极箔、电解电容器及电解电容器的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种电解电容器用电极箔，其具备： 包含铝的阳极体、 覆盖所述阳极体的至少一部分、且包含Al2O3的第一电介质层、以及 覆盖所述第一电介质层的至少一部分、且包含SiO2的第二电介质层， 所述第二电介质层的厚度T2比所述第一电介质层的厚度T1小，所述第一电介质层的厚度T1相对于所述第二电介质层的厚度T2之比T1T2为1.3以上且20以下， 所述第一电介质层的厚度T1和所述第二电介质层的厚度T2的合计厚度为7nm以上且12.5nm以下。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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