恭喜中国科学院长春光学精密机械与物理研究所李龙响获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利基于元件制造误差的光学系统像质影响分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120063670B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510544978.2，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权基于元件制造误差的光学系统像质影响分析方法是由李龙响;刘夕铭;李兴昶;程强;张峰;张学军设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于元件制造误差的光学系统像质影响分析方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种基于元件制造误差的光学系统像质影响分析方法，确定光学系统的结构，并确定光学系统中需要分析的理想光学元件；基于理想光学元件对应的制造误差图，得到对应的带有误差面的实际光学元件；实际光学元件替换理想光学元件，得到实际光学系统；确定入射至实际光学系统的入射光线；入射光线经过实际光学系统传输后，输出对应的出射光线；基于出射光线，对实际光学元件的光学系统进行光迹分析，得到对应的理想光迹图和理想点列图。本发明提供的方法对于不适合衍射理论分析的制造中频误差提供了其对光学像质影响的分析方法，有效降低了分析的不确定性。
本发明授权基于元件制造误差的光学系统像质影响分析方法在权利要求书中公布了：1.一种基于元件制造误差的光学系统像质影响分析方法，其特征在于，包括： S1：确定光学系统的结构，并确定所述光学系统中需要分析的理想光学元件； S2：基于步骤S1中理想光学元件对应的制造误差图，得到对应的带有误差面的实际光学元件； S3：将步骤S2中的实际光学元件替换所述理想光学元件，得到实际光学系统；向所述实际光学系统发射入射光线，得到对应的出射光线； S4：计算步骤S3得到的出射光线所在的直线方程；根据所述光学系统，确定进行光迹分析时的观察面；基于所述直线方程与所述观察面的交点，得到所述实际光学系统的理想光迹图；判断进入所述实际光学系统的主光线的光迹点；将所述理想光迹图与所述光迹点做差，得到理想点列图。
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