恭喜奥卓真空设备技术(珠海)有限公司张永胜获国家专利权
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龙图腾网恭喜奥卓真空设备技术(珠海)有限公司申请的专利一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223047574U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520746200.5，技术领域涉及：C23C14/08；该实用新型一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置是由张永胜;庄炳河;张晓鹏;伍发根;徐旻生;杨凤鸣设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置，包括台体，台体的顶部安装有机械手，台体的一侧外壁安装有进片室，台体的另一侧外壁安装有出片室，进片室的前方安装有装卸站，出片室的前方安装有回流架，装卸站与回流架的顶端均安装有能够拆卸的基片架，基片架中均安装有基片治具，台体的后端安装有镀膜室，镀膜室的顶部中心处转动连接有旋转圆鼓，镀膜室的顶部两端均固定连接有ITO阴极，镀膜室的后端固定连接有ICP离子源；本镀膜装置利用纳米级分层沉积晶化的工艺方法和工艺原理，制作出纳米级分层沉积晶化的镀膜设备，解决了各种塑料、PCB、显示或半导体器件等基板在低温下沉积ITO晶化程度不足，透过率偏低，均匀性差等性能问题。
本实用新型一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种纳米级分层沉积的ITO膜镀膜装置，包括台体（1），其特征在于：所述台体（1）的顶部安装有机械手（2），台体（1）的一侧外壁安装有进片室（4），台体（1）的另一侧外壁安装有出片室（8），进片室（4）的前方安装有装卸站（13），出片室（8）的前方安装有回流架（17），装卸站（13）与回流架（17）的顶端均安装有能够拆卸的基片架（18），基片架（18）中均安装有基片治具（19），台体（1）的后端安装有镀膜室（22），镀膜室（22）的顶部中心处转动连接有旋转圆鼓（25），镀膜室（22）的顶部两端均固定连接有ITO阴极（26），镀膜室（22）的后端固定连接有ICP离子源（27），旋转圆鼓（25）的两端和镀膜室（22）的另外两侧均安装有分子泵（28）。
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