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龙图腾网恭喜中集海洋工程有限公司;清华大学深圳国际研究生院;中集集电(广东)科技发展有限公司申请的专利一种有序排列层状纳米片材料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120006361B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510465132.X，技术领域涉及：C25D5/34；该发明授权一种有序排列层状纳米片材料及其制备方法和应用是由杨诚;王璐萌;廖蓬;陈丽杰;陈有孝;吕国爱设计研发完成，并于2025-04-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种有序排列层状纳米片材料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及纳米片材料的技术领域，具体涉及一种有序排列层状纳米片材料及其制备方法和应用。本申请公开了一种有序排列层状纳米片材料的制备方法，包括以下步骤：S1.对基底进行表面处理，获得处理后的基底；S2.制备晶面调节溶液，将处理后的基底置于晶面调节溶液中反应，以暴露晶面，获得暴露晶面的基底；S3.配置含金属离子的电镀液；S4.电沉积处理，进行电沉积处理，得到有序排列层状纳米片材料。本申请的纳米片材料具有优异的催化活性，能够在大电流密度下长期稳定服役，解决了传统催化剂其结构无法有效促进气体和液体的快速传输，也难以承受气泡排出的冲击的问题。

本发明授权一种有序排列层状纳米片材料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种有序排列层状纳米片材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.对基底进行表面处理，获得处理后的基底； 所述基底进行表面处理的过程为： 用砂纸对基底分别进行单一方向的粗磨和细磨，粗磨砂纸目数为100-500目，细磨砂纸目数为1000-3000目，先粗磨再细磨，控制粗磨与细磨的打磨方向相同，打磨后基底表面呈现平行微米条纹分布，得到处理后的基底； S2.制备晶面调节溶液 将处理后的基底置于晶面调节溶液中反应，以暴露晶面，获得暴露晶面的基底； 其中，在每升所述晶面调节溶液中，包括以下原料： 0.1-6mol蚀刻酸、0.1-2mol晶面抑制剂、0.05-0.2mol稳定剂； 所述的蚀刻酸为盐酸、硝酸、硫酸、草酸中的任一种或者任几种；所述晶面抑制剂为焦磷酸钾；所述稳定剂为硫脲； S3.配置含金属离子的电镀液 在每升所述含金属离子的电镀液中，包括以下原料： 0.1-1.5mol金属盐、0.05-0.2mol络合剂、0.1-0.5mol缓冲剂； 所述金属离子为镍离子、铁离子、钴离子中的任一种或者任几种；所述的络合剂为焦磷酸盐、氯化铵、氨三乙酸盐，三乙醇胺、乙二胺、柠檬酸盐中的任一种或者任几种；所述缓冲剂为硼酸、乙酸-乙酸盐、次磷酸钠、氨水-铵盐中的任一种或者任几种； S4.电沉积处理 以未处理的基底作为第一工作阳极，以暴露晶面的基底作为阴极；将阳极和阴极，置于步骤S3所述含金属离子的电镀液的电解槽中，进行电沉积处理，通入电流密度为50-60mAcm2，电沉积时间为5-40min，得到有序排列层状纳米片材料。

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